В РФ ведется разработка собственной технологии EUV-литографии

Ученые Российской Федерации приступили к разработке собственной технологии EUV-литографии с использованием длины волны в 11,2 нанометра.


Стоит отметить, что инновационная разработка, созданием которой занимаются отечественные исследователи, будет отличаться по своим параметрам от уже существующей технологии, используемой компанией ASML (Нидерланды), являющейся крупнейшим производителем литографического оборудования для мировой микроэлектронной промышленности. Уточним, что в иностранном аналоге используются длины волн в 13,5 нанометра. Предполагается, что российская разработка позволит наладить в нашей стране производство более экономичного и менее сложного оборудования для литографии.

Необходимо также обратить внимание на тот факт, что руководит данным проектом известный физик Николай Чхало, который в 2008 году стал лауреатом премии имени А.Г. Столетова (за серию работ «Развитие многослойной рентгеновской оптики и применение в физических экспериментах и научном приборостроении»).

Николай Чхало подчеркивает, что для функционирования отечественных EUV-машин будут использоваться лазеры на ксеноне, тогда как в иностранных аналогах применяется олово.

Кроме того, добавим, что российские машины будут работать примерно на 37% от производительности ASML. Подобных показателей должно хватить для того, чтобы удовлетворить потребности небольших предприятий. В настоящее время многие эксперты предполагают, что на создание в России полной экосистемы литографии может понадобиться порядка десяти лет.

Ранее мы уже сообщали нашим читателям, что в 2024 году государственная корпорация «Росатом» достигла феноменальных результатов в производстве и сбыте кальциевой инжекционной проволоки.